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大理石平臺(tái)拋光和打蠟有什么區(qū)別?

  一。本質(zhì)區(qū)別:

    1)大理石平臺(tái)磨塊拋光是石材晶面加工的前奏,也是石材加工中不可少的工藝過程。其主要原理是利用無機(jī)酸、金屬氧化物等材料壓制碾壓塊與機(jī)械研磨盤的壓力、高速磨削力、摩擦熱、水的作用在相對(duì)平滑的大理石表面進(jìn)行物理、化學(xué)結(jié)合,從而形成新的亮晶層。這個(gè)水晶層有一個(gè)超亮,清晰的亮度高達(dá)90-100度。晶體層為石材表層(1-2mm厚)的改性復(fù)合晶體層。

    2)大理石清洗是大理石蠟拋光、大理石清洗和打蠟拋光的前奏,屬于早期80—90流行的大理石清洗維護(hù)保養(yǎng)措施,現(xiàn)在已經(jīng)失去了市場(chǎng)和存在的意義。它本質(zhì)上是一層薄薄的丙烯酸樹脂和乳液聚合物涂層,覆蓋在新鋪的石頭(拋光板)表面,這種石頭被稱為水蠟或地板蠟。經(jīng)過高速、低壓拋光機(jī)與纖維墊在石材表面摩擦,使樹脂涂層具有光亮的工藝性。由于產(chǎn)品新,后來又出現(xiàn)了的光滑蠟,避免掉蠟等,這種涂料類似于木地板上的油的清漆。

    3)大理石平臺(tái)護(hù)理晶面加工前的磨塊拋光過程是石材表層與化學(xué)物質(zhì)的物理化學(xué)相互作用過程。石材表層與底層融合成一個(gè)整體,沒有脫離層。

    4)大理石表面蠟層拋光和拋光附著在石材表面上。一層樹脂膜和石頭之間沒有化學(xué)反應(yīng)。這個(gè)蠟?zāi)涌梢杂玫镀p輕一鏟,蠟?zāi)た梢詮氖谋砻媲邢隆?/p>

    2。外觀差異:

    1)大理石平臺(tái)打磨塊的拋光是石材水晶面處理的前奏,是石材管理和養(yǎng)護(hù)的基礎(chǔ)。石材經(jīng)拋光后,具有高亮度、高清晰度、、抗踏面、不易劃傷等特點(diǎn)。它是石材使用功能及其價(jià)值延伸的真實(shí)體現(xiàn)。

    2)蠟拋光后亮度低,光度不清,且非常模糊,不,不耐水,易刮傷,氧化黃色石材不可少的圖像還原。




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